@Эдуард Анисимов,
Они много на чем бюджет пилить обещали. Вот например.
15.01.2021 Низкопотребляющий микроконтроллер, не имеющий аналогов в России, будет разработан в НИИЭТ.
https://niiet.ru/newmicro/
И нет ничего.
Вот например узнали про нижеследующее.
1. Областью истока транзисторного кристалла является подложка. Это позволяет реализовать минимальные значения индуктивности истокового вывода, вследствие чего значительно увеличиваются значения коэффициента усиления по мощности КУР.
2. В конструкции транзисторного кристалла реализована минимальная площадь перекрытия областей стока и затвора, в результате чего в несколько раз снижается величина проходной ёмкости С12. Кроме того, в транзисторах последних поколений предусмотрены дополнительные защитные экраны для ещё более существенного снижения С12.
3. При монтаже кристалла LDMOS транзистора в корпус вывод истока напрямую соединяется с фланцем корпуса. Это исключает применение в составе корпуса керамики из окиси бериллия и приводит к существенному снижению теплового сопротивления и, как следствие, к повышению максимально допустимой рассеиваемой мощности.
4. Пробивное напряжение сток-исток определяется топологической протяженностью низколегированной дрейфовой n- области стока и концентрационным профилем легирующей примеси в ней.
5. В транзисторах последних поколений имеется встроенная защита от статического электричества.
Кроме рекламных слоганов про оптимизацию, что конкретно Вы улучшили?
PS Читайте древние книжки по этой теме. Может чего нового узнаете.
1. Murae T., Fujii K., Matsuno T. High Power S-band Solid-State Amplifiers for Surveillance and Traffic Control Radars. IEEE MTT-S. 2001.
2. Dragon C., Brakensienk W., Burdeaux D., Burger W., Funk G., Hurst M., Rice D. 200W Push-Pull & 110W Single-Ended High Performance RF-LDMOS Transistors for WCDMA Basestation Applications. IEEE MTT-S. 2003.
3. Brech H., Brakensienk W., Burdeaux D., Burger W., Dragon C., Formicone G., Pryor B., Rice D. Record Efficiency and Gain at 2.1GHz of High Power RF Transistors for Cellular and 3G Base Stations. IEEE IEDM. 2003.
4. Burger W., Brech H., Burdeaux D., Dragon C., Formicone G., Honan M., Pryor B., Ren X. RF-LDMOS: A Device Technology for High Power RF Infrastructure Applications. IEEE CSIS Symposium. 2004.
5. Brech H., Burger W., Dragon C., Pryor B. Voltage Optimization for State of the Art RF-LDMOS for 2.1GHz W-CDMA Cellular Infrastructure Applications. IEEE MTT-S. 2003.
Они много на чем бюджет пилить обещали. Вот например.
15.01.2021 Низкопотребляющий микроконтроллер, не имеющий аналогов в России, будет разработан в НИИЭТ.
https://niiet.ru/newmicro/
И нет ничего.
Взяли иностранную литературу, взяли иностранные компоненты, разбирались 10 лет. В 2017 НИИЭТ наконец с грехом пополам в этом разобралась.Кроме того, ведутся работы по созданию серии мощных СВЧ LDMOS-транзисторов, оптимизированных для работы с телевизионным сигналом стандартов DVB-T / DVB-T2.
Вот например узнали про нижеследующее.
1. Областью истока транзисторного кристалла является подложка. Это позволяет реализовать минимальные значения индуктивности истокового вывода, вследствие чего значительно увеличиваются значения коэффициента усиления по мощности КУР.
2. В конструкции транзисторного кристалла реализована минимальная площадь перекрытия областей стока и затвора, в результате чего в несколько раз снижается величина проходной ёмкости С12. Кроме того, в транзисторах последних поколений предусмотрены дополнительные защитные экраны для ещё более существенного снижения С12.
3. При монтаже кристалла LDMOS транзистора в корпус вывод истока напрямую соединяется с фланцем корпуса. Это исключает применение в составе корпуса керамики из окиси бериллия и приводит к существенному снижению теплового сопротивления и, как следствие, к повышению максимально допустимой рассеиваемой мощности.
4. Пробивное напряжение сток-исток определяется топологической протяженностью низколегированной дрейфовой n- области стока и концентрационным профилем легирующей примеси в ней.
5. В транзисторах последних поколений имеется встроенная защита от статического электричества.
Кроме рекламных слоганов про оптимизацию, что конкретно Вы улучшили?
PS Читайте древние книжки по этой теме. Может чего нового узнаете.
1. Murae T., Fujii K., Matsuno T. High Power S-band Solid-State Amplifiers for Surveillance and Traffic Control Radars. IEEE MTT-S. 2001.
2. Dragon C., Brakensienk W., Burdeaux D., Burger W., Funk G., Hurst M., Rice D. 200W Push-Pull & 110W Single-Ended High Performance RF-LDMOS Transistors for WCDMA Basestation Applications. IEEE MTT-S. 2003.
3. Brech H., Brakensienk W., Burdeaux D., Burger W., Dragon C., Formicone G., Pryor B., Rice D. Record Efficiency and Gain at 2.1GHz of High Power RF Transistors for Cellular and 3G Base Stations. IEEE IEDM. 2003.
4. Burger W., Brech H., Burdeaux D., Dragon C., Formicone G., Honan M., Pryor B., Ren X. RF-LDMOS: A Device Technology for High Power RF Infrastructure Applications. IEEE CSIS Symposium. 2004.
5. Brech H., Burger W., Dragon C., Pryor B. Voltage Optimization for State of the Art RF-LDMOS for 2.1GHz W-CDMA Cellular Infrastructure Applications. IEEE MTT-S. 2003.